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大部分铜抛光
CMP垫
北京PK赛车的抛光垫系列产品
北京PK赛车是全球抛光垫的领导者, 为半导体芯片制造业和其他先进的基板抛光应用服务的化学机械平面化(CMP)浆和应用专业知识. With decades of experience, 北京PK赛车提供全方位的抛光垫和抛光浆，以满足每个CMP应用和节点的不同性能需求. 每个产品都包含特定的设计目标和基础科学，以实现所需的性能. 我们先进的R&维能力, including statistical process control, 自动化, 以及产品特性分析, 是否导致了材料创新方面的重大进步.
应用设施靠近我们的客户, 我们已经能够与我们的客户开发关键的合作，以加速产品和流程的开发, 包括14纳米以下的CMP工艺和3D-IC技术的平面化材料. 我们的战略联盟和合作将新的CMP技术以更快的速度带给我们的客户，同时提供最适合每个客户特定工艺要求的材料.
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CMP应用程序
我们的CMP垫覆盖了广泛的应用和技术节点. 以帮助理解哪些技术适合不同的CMP应用程序, please refer to the following chart.
Ikonic™ 3040M, 4121H, 4250H
Visionpad™ 6000, 7480, 9280
IC1000™
Copper Barrier Polishing
Ikonic™ 2010H, 2020H, 2040H, 2060H
Visionpad™3100,3500
Optivision™PRO 9500
钨抛光
Ikonic™ 4250H, 4121H, 4141H
Visionpad™5000
IC1000™
STI /Ceria Polishing 应用程序
Ikonic™ 4121H, 4140H, 4250H
Visionpad™5000,6000
IC1000™
氧化物抛光
Visionpad™5000,6000, 7480
IC1000™
浅黄色抛光
Ikonic™ 2010H, 2020H, 2040H, 2060H
Optivision™4540,4548
Optivision™PRO 9500
Politex™,Politex™
IC1000™
其他CMP应用程序
我们的CMP垫覆盖了广泛的应用和技术节点. 欲进一步了解北京PK赛车网站CMP垫，请参阅我们的 产品系列的应用概述.