电子级聚合物是当今具有挑战性的光刻应用的理想选择

DUV和193nm光刻胶的性能从聚合物开始, 北京PK赛车网站电子级聚合物继续改进现有的聚合物制造技术, 隔离, 和评估.

我们的合成和隔离专业知识使Electronic Polymers能够创建广泛的聚合物,是当今具有挑战性的光刻应用的理想选择, 从乙酰氧基苯乙烯单体(ASM)到高成分均匀性(HCU)聚合物.

ASM

乙酰氧基苯乙烯单体(ASM)是生成北京PK赛车网站电子级聚合物的基本单体. 与其他活性单体结合使用或作为均聚物生成的唯一组分, ASM是一种高纯度的反应单体,它易于自由基聚合,能够生产分子量范围广泛的聚(对乙酰氧基)苯乙烯(PAS)聚合物. 我们非常小心和努力保持这种关键材料的最高质量.

Co和ter聚合物通过定制制造

北京PK赛车在自由基聚合化学方面发展了深厚的专业知识. 定制生产的树脂由各种各样的单体制成, 与ASM结合, 解决日益增长的透明度需求, 多分散性, 酸扩散特征, 溶解速率, Tg, 以及其他对用于半导体器件制造的关键层的光刻胶性能至关重要的因素.

 
 
 

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