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光刻材料与服务“,

 
 
 

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市场领先的微光刻材料,以支持先进的制版

北京PK赛车网站设计微光刻材料,以改进现有的微光刻工艺,并支持先进的制版工艺. 我们在光刻技术方面的悠久历史包括许多行业领先的技术创新. 我们的产品在市场上处于领先地位, 包括ArF光阻, KrF光阻, 我/ g光阻, 和有机底防反射涂层(BARC)材料.

通过与您合作来理解您的技术挑战, 我们开发材料解决方案来满足他们. 过程越高级, 合作设计特定的材料越重要.

北京PK赛车会用你最大的 (最小) 光刻技术挑战! 

 
 
 
  • 显微光刻法, 或光刻, 成像技术是关键的蚀刻步骤在半导体制造. 它用于将电路图案从光掩模转移到硅片上, 之后,蚀刻过程完成了图案

  • 无处不在的高性能驱动, 低功耗计算需求, 半导体制造业为了制造出速度更快、体积更小、存储容量更大的晶体管,持续缩小了特征尺寸. 这就需要高质量和高性能的光刻材料.

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