硅前体

硅前驱体有助于优化CVD和ALD

含硅材料在半导体器件制造中被广泛使用. 北京PK赛车是芯片制造中用于化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)步骤的硅气体/前体的长期供应商.

这些经过验证的解决方案已在整个半导体行业得到广泛采用, 北京PK赛车网站送了个保险箱, 这些先进材料的稳定供应和质量管理.

北京PK赛车的产品包括:

  • 三甲基硅烷(3MS)气体的低k介质和低k扩散壁垒与铜互连, 以及蚀刻硬掩模

  • Tetramethylsilane (4MS) precursors for low-K barrier films; etch hard masks; and carbon-doped silicon films and silicon carbide-like films

  • 六氯二硅烷(HCDS)前驱体适形氧化硅和氮化硅在ALD过程中的应用. 可提供化工级和电子级产品.

  • 北京PK赛车网站-您优质硅基前体材料的合作伙伴.

 
 
 
  • 硅前驱体是高纯度的气体或液体材料,用于制造半导体器件的关键步骤.

半导体硅材料

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