polex™CMP抛光垫

化学机械平面化(CMP)的Politex™垫系列用于铜屏障, 抛光和清洁应用. Politex™垫是行业标准的软垫.

  • 好处:

    • 适用于多种应用的工业标准软垫
    • 不需要空调

    应用程序:

    • 铜障碍,浅黄色
其他CMP应用程序

我们的CMP垫覆盖了广泛的应用和技术节点. 欲进一步了解北京PK赛车网站CMP垫,请参阅我们的 产品系列的应用概述.